等离子清洗器的两个特定应用

   等离子清洗器是一种小型化、快速、非破坏性并无化学污
染的台式射频气体放电超清洗设备，主要用于需要表面超
清洗的许多领域中，它也被用于一些材料表面化学改性。
等离子清洗器清洗介质采用惰性气体，有效避免了其它清
洗方法使用液体清洗介质对被清洗物所带来的二次污染。
对某些特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的
辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和侵润
性，并使这些材料得到了消毒。等离子清洗器广泛应用于
光学材料、半导体工业、生物芯片、生物医学、牙科、高
分子科学等各个方面。  


 


图1，等离子清洗前后的Ge表面上的ATR 光谱（θave＝45°，N＝20）。底部路径表明Ge覆盖了一层厚（大约1微米）的光阻物质（Azlll）。顶部路径表明了在用O2等离子清洗十五分钟后的相同表面，表明了Ge在光阻物质从其表面脱除后又回到了其初始有机自由状态。

 

图2，从一个硅ATR盘片（60 反射，θ＝45°）上移除碳氧化
合物。C－H键（底部路径）表明10％的吸收，在等离子空气中
暴露一分钟后被彻底消除（顶部路径）。

 

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