系统设计工程师必须经常考虑如何经济有效地选择去耦电容的系统布局。
高速电路系统中的电源供电系统通常可以分成芯片、集成电路封装结构和PCB三个物理子系统。芯片上的电源栅格由交替放置的几层金属层构成,每层金属由X或Y方向的金属细条构成电源或地栅格,过孔则将不同层的金属细条连接起来。
对于一些高性能的芯片,无论内核或是IO的电源供电都集成了很多去耦单元。集成电路封装结构,如同一个缩小了的PCB,有几层形状复杂的电源或地平板。在封装结构的上表面,通常留有去耦电容的安装位置。PCB则通常含有连续的面积较大的电源和地平板,以及一些大大小小的分立去耦电容元件,及电源整流模块(VRM)。邦定线、C4凸点、焊球则把芯片、封装和PCB连接在了一起。
整个电源供电系统要保证给各个集成电路器件提供在正常范围内稳定的电压。然而,开关电流和那些电源供电系统中寄生的高频效应总是会引入电压噪声。其电压变化可以由下式计算得到:
这里ΔV是在器件处观测到的电压波动,ΔI是开关电流。Z是在器件处观测到的整个电源供电系统电源与地之间的输入阻抗。为了减小电压波动,电源与地之间要保持低阻。在直流情况下,由于Z变成了纯电阻,低阻就对应了低的电源供电IR压降。在交流情况下,低阻能使开关电流产生的瞬态噪声也变小。当然,这就需要Z在很宽的频带上都要保持很小。
图2:Sigrity PowerDC计算得到电源板层上的电流分布。
注意到电源和地通常用来作为信号回路和参
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