来自美国芝加哥7月20日的消息：近日，热电集团发布了一款全新的材料表征仪器——K-Alpha。K-Alpha采用了当今飞速发展的X射线光电子能谱（XPS）技术，可对固体材料、绝缘体、半导体以及金属材料表面向下几纳米厚度区域的化学组成进行定量分析，分析简便、可靠，并且完全自动化。这一具有创新性的系统是专为高通量样品分析设计的，它集成了独特的数据处理运算法则，可提供全自动化的数据采集、分析和报告。该产品将在“Microscopy and Microanalysis 2006”上向外界展出。

       该仪器革命性的电子光学设计使其具有极高的灵敏度，从而可以完成对于极其复杂材料表面的化学分析，既可应用于传统材料，也可应用在目前正在兴起的生物科技、纳米科技和制药工业等领域。K-Alpha的小斑点特性（small spot）以及它的高灵敏度可实现快速化学状态成像。它的整体式离子源使系统具备高分辨率的深度剖析能力，从而实现了真正的三维分析。紧凑的外观设计和系统内置的校正功能使K-Alpha成为一款低成本、高性能的表面化学分析工具。